Imec anuncia la llegada del sistema de litografía ASML EXE:5200 de alto nivel EUV, la herramienta de litografía más avanzada disponible actualmente. Con este hito estratégico, imec refuerza su posición como plataforma de lanzamiento de la industria hacia la era ångström, ofreciendo a su ecosistema de socios globales un acceso temprano sin igual a la próxima generación de tecnologías de escalado de chips. Integrado directamente con un conjunto completo de herramientas y materiales de patrones y metrología, el sistema de alto NAA EUV permitirá a imec y a sus socios del ecosistema desbloquear el rendimiento necesario para ser pioneros en tecnologías de lógica sub-2 nm y memoria de alta densidad que impulsarán el rápido crecimiento de la IA avanzada y la computación de alto rendimiento (NA).
Luc Van den Hove, CEO de imec: «Los últimos dos años han marcado un capítulo importante para la litografía EUV de Alto NA (0,55NA), con imec y ASML uniendo fuerzas con el ecosistema en su laboratorio conjunto de litografía de EUV de Alto NA en Veldhoven (Países Bajos) para ser pioneros en la tecnología de EUV de alto NA. Con la instalación del sistema de litografía EXE:5200 de alto nivel EUV en nuestra sala limpia de 300 mm en Lovaina (Bélgica), nuestro objetivo es llevar estas tecnologías de patronado de alto alto nivel de energía en EUV a una escala relevante para la industria y desarrollar los casos de uso de próxima generación para el patrón de alto aire americano en EUV. Su resolución inigualable, mejora en el rendimiento de las superposiciones, alto rendimiento y un nuevo almacenador de obleas que mejora la estabilidad y el rendimiento de procesos, darán a nuestros socios una ventaja decisiva para acelerar el desarrollo de tecnologías de chips de bajo 2 nm. A medida que la industria entra en la era ångström, la Alta NA EUV será una capacidad fundamental, y IMEC se enorgullece de liderar el camino ofreciendo a sus socios el acceso más temprano y completo a esta tecnología.»
Este hito es un elemento clave de la asociación estratégica de cinco años de IMEC con ASML, apoyada por la UE (Chips Joint Undertaking e IPCEI), el gobierno flamenco y el gobierno neerlandés. Luc Van den Hove: «Como parte integral de la línea piloto de NanoIC financiada por la UE, la herramienta está destinada a desempeñar un papel fundamental en el fortalecimiento de la posición de Europa como líder en I&D avanzado de semiconductores en las próximas décadas.»
Tener el sistema de litografía ASML EXE:5200 High NA EUV en la sala limpia de imec posiciona firmemente a imec como el entorno de desarrollo más completo para patrones avanzados. La profunda colaboración de ecosistemas de Imec con los principales fabricantes de chips, proveedores de equipos, materiales y resistencias, empresas de máscaras y expertos en metrología nos permitirá intensificar los ciclos de aprendizaje y mejorar la estabilidad de los procesos para desarrollar y demostrar patrones de vanguardia para la tecnología de lógica y dispositivos de memoria de próxima generación, impulsando avances que moldearán el futuro de la computación avanzada y la IA en los próximos años.
Christophe Fouquet, CEO de ASML: «La instalación del EXE:5200 por parte de Imec marca un paso importante hacia la era de ångström. Juntos, estamos acelerando la extensibilidad de la alta NA EUV para las próximas generaciones de memoria y computación avanzada.»
IMEC prevé que el sistema de litografía EXE:5200 de alto NA EUV esté totalmente cualificado para el cuarto trimestre de 2026. Mientras tanto, el laboratorio conjunto ASML-imec de litografía de alto NA EUV en Veldhoven seguirá operativo, asegurando la continuidad de las actividades de investigación y desarrollo de alto NA para el imec y sus socios del ecosistema.
